无氰金铋合鑫电镀配方及工艺的研究

金铋合金微靶是激光聚变(ICF)实验中具有广泛应用前景的靶材，近年来发展较为迅速的脉冲电镀技术是制备Au-Bi合金靶有效的方法。采用亚硫酸盐-酒石酸盐镀液体系与氰化物镀液相比具有无毒性，较为环保，废液的处理成本低等优点而使其具有极大的应用价值。
　　 本文通过优化筛选确定了制备Au-Bi合金微靶的镀液。采用亚硫酸盐-酒石酸盐镀液体系，通过调控镀液的成分及脉冲参数有效的控制合金的组分（铋含量控制在1.5％～9.5％Wt％）实现了金、铋的共沉积。并通过正交试验与单因素实验考察了对镀膜质量影响较大的因素，同时得到了制备合金的最佳配方及工艺参数：氯化铋60g/L，金1.5g/L，酒石酸钾钠125g/L，氨水8.5mL/L，亚硫酸铵65mL/L，氯化钾50g/L，柠檬酸钾55g/L，十二烷基硫酸钠O.02g/L，酒石酸锑钾0.35g/L，频率700Hz，平均电流密度0.55～0.85A/dm2，占空比1:7，温度450C，极间距6cm。
　　 通过扫面电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)等检测手段对制备的合金样品进行分析。结果表明，金、铋可以实现很好的共沉积，合金镀层的各项性能均符合ICF合金微靶的要求。